注册

国家标准《锗单晶位错密度的测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 有研光电新材料有限责任公司北京国晶辉红外光学科技有限公司国合通用测试评价认证股份公司云南临沧鑫圆锗业股份有限公司中国电子科技集团公司第四十六研究所广东先导稀材股份有限公司中锗科技有限公司义乌力迈新材料有限公司

主要起草人 张路冯德伸马会超普世坤姚康刘新军郭荣贵向清华韦圣林黄洪伟文

目录

标准状态

代替了以下标准

GB/T 5252-2006 (全部代替)

锗单晶位错腐蚀坑密度测量方法
当前标准

GB/T 5252-2020 现行

锗单晶位错密度的测试方法

基础信息

标准号
GB/T 5252-2020
发布日期
2020-06-02
实施日期
2021-04-01
全部代替标准
GB/T 5252-2006
标准类别
方法
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准化管理委员会

起草单位

起草人

张路
冯德伸
姚康
刘新军
韦圣林
黄洪伟文
马会超
普世坤
郭荣贵
向清华

相近标准(计划)