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国家标准《氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所苏州纳维科技有限公司中国电子科技集团公司第四十六研究所哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司厦门柯誉尔科技有限公司山西华晶恒基新材料有限公司福建兆元光电有限公司

主要起草人 邱永鑫徐科王建峰任国强李腾坤左洪波郑树楠刘立娜杨鑫宏邝光宁丁崇灯陈友勇

目录

标准状态

当前标准

GB/T 41751-2022 现行

氮化镓单晶衬底片晶面曲率半径测试方法

基础信息

标准号
GB/T 41751-2022
发布日期
2022-10-12
实施日期
2023-02-01
标准类别
方法
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准化管理委员会

起草单位

起草人

邱永鑫
徐科
李腾坤
左洪波
杨鑫宏
邝光宁
王建峰
任国强
郑树楠
刘立娜
丁崇灯
陈友勇

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