国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、山东天岳先进科技股份有限公司 。

主要起草人 马农农 、何友琴 、陈潇 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、张红岩 。