国家标准《硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 中环领先（徐州）半导体材料有限公司 、山东有研半导体材料有限公司 、中环领先半导体材料有限公司 、浙江海纳半导体股份有限公司 、厦门万明电子有限公司 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、麦斯克电子材料股份有限公司 、浙江旭盛电子有限公司 。

主要起草人 朱志高 、陈俊宏 、陈凤林 、高海棠 、李素青 、朱晓彤 、由佰玲 、吕莹 、潘金平 、张海英 、胡晓亮 、方丽霞 、陈跃骅 、黄景明 。